Галтовка роторная OTEC CF 3х18-I WWW (мокрая)

Описание:
Галтовка роторная OTEC CF 3х18-I WWW (универсальная) с тремя рабочими контейнерами.
Применяется для мокрого процесса шлифовки/полировки изделий практически из всех металлов и сплавов.
Рекомендована для крупносерийных производств.
Гибкий процесс обработки.
Высокий конечный результат.
Кратковременность процесса.
Усиленная рама станка изготовлена в современном дизайне из листового металла, окрашенного порошковой краской.
Выгрузка из контейнера производится методом переворачивания с помощью специального рычага.
Высокоточный подшипниковый узел роторного диска.
Сенсорная панель управления Siemens (сохранение более 500 программ) на русском языке с указанием:
- установленную скорость в об/мин;
- заданное время обработки;
- оставшееся время обработки;
- количество смеси вода-компаунд в л/ч;
Кнопка Старт/Стоп.
Функция SLOWLY END - снижение скорости вращения диска в конце процесса.
Функция промывки деталей и абразива (в начале, середине и конце цикла обработки).


Технические характеристики:
Электропитание - 230 В, 50/60 Гц, 16 A.
Мощность двигателя– 2,7 кВт.
Потребляемая мощность - 3,0 кВт.
Объем барабанов - 3х18 л.
Внутренний диаметр барабанов - 330 мм.
Вес 1 изделия - не более 6-8 г.
Режим работы - средний цикл 2-4 ч.
Система регулировки зазора - керамика (диск)/полиуретан (контейнер).
Система дозирования с автоматической регулировкой подачи компаунда и воды.
Технологический зазор между верхним контейнером и вращающимся диском – 0,4 мм.
Минимальный размер наполнителя - 2 мм.
Загрузка:
- вес всех изделий - 3-5 кг;
- вес наполнителя - 7-9 кг (визуальный критерий - максимум 40мм до края барабана).
Габаритные размеры ДхШхВ - 1855х1094х1635 мм.
Габаритные размеры с упаковкой ДхШхВ - 2100x1200x1890 мм.
Вес нетто - 270 кг.
Вес брутто - 460 кг.
Информация о гарантии.;
Гарантия не распространяется на: Подвижные и трущиеся детали: Тарелки роторные.;
Кольца скольжения.;
Оси вращения.;
Подшипники.;
Так же производитель не несет ответственности за: Скачки напряжения.;
Перегрев устройств.;
Отсутствия заземления.;
Воздействия химикатами.